(BFM Bourse) - Soitec a annoncé mardi soir l'installation par sa filiale Altatech d'un système AltaCVD au sein de la division technologie silicium du CEA-Leti (Laboratoire d'Électronique de Technologie de l'Information).
« Ce système sera utilisé par le centre international de recherche appliquée pour développer des produits mémoire avancés à changement de phase et des grilles métalliques pour oxydes à haute permittivité diélectrique (high-k pour le noeud technologique au-delà de 20 nanomètres) », explique le groupe.
« Notre plateforme AltaCVD démontre une nouvelle fois ses performances dans le domaine du dépôt chimique de matériaux de nouvelle génération, que ce soit dans des laboratoires de R&D ou des usines de fabrication commerciales », a déclaré Jean-Luc Delcarri, directeur général d'Altatech. « Suite au lancement de nos systèmes avancés de dépôt chimique en phase vapeur pour le traitement des mémoires et en front-end, ainsi qu'au déploiement de nos outils de dépôt pour les couches conductrices et l'isolation des contacts électriques traversants (TSV — Through-Silicon-Via), nous appliquons à présent notre technologie déjà prouvée, à la création de mémoires avancées et de grilles métalliques à haute permittivité.
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