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Soitec : L'Université de Washington choisit le système CVD d'Altatech

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(Tradingsat.com) - Altatech, filiale de Soitec, a reçu une commande de l’Université de Washington à Seattle d’une plate-forme AltaCVD, définie comme un "système de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui regroupe au sein d’un dispositif unique un ensemble de fonctions permettant aux utilisateurs de développer de nouveaux matériaux de traitement à forte valeur ajoutée".

Le système CVD d’Altatech sera installé au sein de la Washington Nanofabrication Facility (WNF) de l’université de Washington, où il sera utilisé par des chercheurs internes et extérieurs pour fabriquer un large éventail de produits équipés de semi-conducteurs.

"A l’heure actuelle, le système avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pulsé d’Altatech est très largement utilisé par les centres de R&D et les sites de production pilotes partout en Europe. Toutefois, avec cette commande de l’Université de Washington, le système AltaCVD sera livré pour la première fois à un centre de R&D universitaire et un site de production pilote d’Amérique du Nord", souligne Soitec.

"L’adoption de nos systèmes CVD par cet établissement réputé en Amérique du Nord démontre une nouvelle fois les avantages reconnus de notre technologie de dépôt par impulsions", a déclaré Jean-Luc Delcarri, directeur général d'Altatech, filiale de Soitec.


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